近几年，中国科技企业，尤其是华为在5G、半导体等方面所取得的成就，让所有国人为之骄傲。但是，包括华为在内的科技巨头都无法忽略一个短板问题，那就是芯片技术对美国的依赖。比如PC方面依赖于美国的AMD、英特尔，手机方面依赖于高通等。

虽然龙芯、紫光展锐等企业的芯片可以满足国内市场需求，华为的芯片甚至还能跻身世界第一梯队，但中美贸易摩擦的不断升级，美国开始利用芯片专利对我国实施技术封锁，这让华为被卡住了脖子，设计好的芯片无法量产，中芯国际也被断粮，无法生产高端芯片，龙芯、紫光展锐也需要找台积电进行代工。而这一切，正是因为缺少芯片制造过程中的核心设备，光刻机。

不过，美国此举反而彻底让我们意识到了“核心能力和技术必须要靠自己”。为推动国产半导体产业的发展，我国出台了免税等优惠政策，上万家企业入局半导体。虽然不乏滥竽充数的企业，但也有不少真正有实力的科技巨头，比如中芯国际、华为、上海微电子等等。而如今，我国在光刻机领域也获得了重大突破！

国产DUV光刻机完成认证

据报道，国产光刻机巨头上海微电所研发的首台国产28nm光刻机已经完成了认证，并且今年年底将实现量产。28nm光刻机是深紫光刻机，也就是DUV光刻机，不仅能实现28nm、14nm工艺芯片的量产，同时还可以通过多次曝光的方式，实现非EUV 7nm工艺芯片的生产，这也意味着，从今年年底或明年年初，我国将进入中高端芯片量产时代。

在芯片市场，14nm芯片是一个成熟工艺和先进工艺的分界点，现阶段，28nm、55nm工艺芯片在市场需求中所占的比例非常高，而随着消费者的要求越来越高，14nm工艺芯片的市场需求正在快速增长。公开数据显示，这些成熟工艺芯片的出货量占据了90%以上的市场占比。虽然国产光刻机还无法实现7nm、5nm EUV工艺芯片的量产，但这部分芯片大部分用在了智能手机、PC和平板这些高性能设备上，市场占比很小。

而在产能方面，根据国家统计局公布的数据显示，2021年1-7月份中企生产的芯片多达2036亿颗，同比增长47.3%，平均每天超过10亿颗芯片。除此之外，中科院研发的高能同步光源，中科科美所研制的镀膜装备，已经满足了EUV光刻机对光源及镜头的要求，这为我国研制EUV光刻机提供了有力支撑，可以说，这场芯片闹剧快结束了！通过技术遏制保持美国技术领先的做法，这本身就是一场闹剧，从5G到航天、北斗，我们可以发现，靠技术封锁、技术脱钩打压中国，注定是失败的！

值得注意的是，市场往往是此消彼长，中国芯片产能和技术的不断的提升，受影响最大的无疑就是美国技术所撑起的半导体企业，再想起国内军事专家张召忠此前讲过的话，感觉“美国芯片没人要，中国芯片遍地都是”的日子真的快要来了！